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      外媒:華為計劃建造不使用美國技術的芯片制造工廠

      外媒:華為計劃建造不使用美國技術的芯片制造工廠

      更新時間

      2020-11-02

      【TechWeb】11月2日消息,據國外媒體報道,華為正計劃在上海建造不使用美國技術的芯片制造工廠。

      了解該項目的人知情稱,華為沒有制造芯片的經驗,該廠將由合作伙伴上海集成電路研發中心運營。

      知情人士稱,預計該廠將從低端的45納米起步。華為計劃在2021年底之前制造用于“物聯網”設備的28納米芯片,在2022年底之前生產用于5G電信設備的20納米芯片。

      據官網介紹,上海集成電路研發中心有限公司(ICRD)成立于2002年,ICRD由中國集成電路相關企業集團和高校聯合投資組建而成。

      上海集成電路研發中心位于上海市張江高科技園區,地理位置毗鄰華力微電子和中芯國際。ICRD建有中國12英寸開放式集成電路先進工藝研發和裝備材料試驗平臺,凈化面積超過3000平方米,研發環境及辦理系統和大生產線完全匹配,可實現硅片無沾污進出和工藝流程無縫銜接,加快了技術研發和驗證速度。


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